Регистрация пройдена успешно!
Пожалуйста, перейдите по ссылке из письма, отправленного на
$from_infinity = @type = article wide_mode=

РФ возложила ответственность на Эстонию за ухудшение двусторонних отношений

МОСКВА, 31 мая — РИА Новости. Деструктивная линия властей Эстонии негативным образом скажется на двусторонних отношениях, ответственность за последствия этих действий лежит на Таллине, об этом говорится в опубликованном в среду сообщении МИД РФ в связи с решением Москвы о высылке двух эстонских дипломатов в качестве ответной меры.

Вид на здание Министерства иностранных дел Российской Федерации. Архивное фото
Россия объявила персоной нон грата генконсула Эстонии в Петербурге
"С российской стороны вновь подчеркнуто, что продолжающаяся деструктивная линия эстонских властей неизбежно самым негативным образом скажется на двусторонних отношениях. Вся ответственность за последствия такой политики лежит на эстонской стороне", — говорится в сообщении российского МИД.

Ранее в МИД Эстонии сообщили РИА Новости, что власти страны предписали генеральному консулу в Нарве Дмитрию Казеннову и консулу Андрею Сургаеву покинуть страну. Причины такого решения не сообщаются. В министерстве иностранных дел России ранее назвали высылку дипломатов очередным недружественным и ничем не обоснованным актом, который не останется без ответа.

Здание Министерство иностранных дел РФ Москвы. Архивное фото
Россия высылает двух эстонских дипломатов в ответ на действия Таллина
Позднее пресс-атташе посольства РФ в Таллине Денис Мосюков сообщил РИА Новости, что консул в Нарве Андрей Сургаев покинул Эстонию во вторник, генеральный консул в этом городе Дмитрий Казеннов уедет в среду.

Как сообщил ранее посол России в Эстонии Александр Петров, оба дипломата являются кадровыми сотрудниками МИД РФ, "которые за время своей работы в Нарве немало сделали для улучшения двусторонних отношений".

Рекомендуем
Лента новостей
0
Сначала новыеСначала старые
loader
Чтобы участвовать в дискуссии
авторизуйтесь или зарегистрируйтесь
loader
Чаты
Заголовок открываемого материала