МОСКВА, 26 апр - РИА Новости. Научно-исследовательский институт молекулярной электроники (НИИМЭ), имеющий статус резидента ОЭЗ "Технополис Москва", занялся разработкой фоторезистов – литографических материалов для электронной промышленности, сообщил руководитель столичного департамента инвестиционной и промышленной политики (ДИПП) Владислав Овчинский.
"Более половины всей продукции, выпускаемой в ОЭЗ, приходится на микроэлектронику. В кластер микроэлектроники входит и компания "НИИМЭ", которая планирует наладить производство отечественных фоторезистов, востребованных при выпуске интегральных микросхем. Потребителями продукции станут российские производители микроэлектроники", - указал глава департамента, слова которого приводит пресс-служба ДИПП.
Фоторезист – светочувствительный полимерный материал, который наносят на кремниевую пластину в ходе процесса фотолитографии. С его помощью на поверхности обрабатываемой детали формируются выделенные участки – "окна" – для дальнейшего травления или легирования поверхности. Эта технология является основной в производстве интегральных микросхем.
НИИМЭ по программе импортозамещения занимается разработками и анализом высокочистых химических реактивов для отечественной промышленности. В 2021 году при институте была создана единственная в России физико-химическая аналитическая лаборатория мирового уровня для проведения исследований в области контроля качества технологических сред. Сегодня лаборатория участвует во всех опытно-конструкторских работах по созданию химреактивов требуемого качества и методик анализа соответствия качества высокочистых материалов.